下拉法晶体生长炉

下拉法晶体生长炉

一·下拉法晶体生长炉设备用途：

下拉法晶体生长炉兼顾感应区熔及晶体生长炉两种功能，一种用于材料的熔化提纯，一种用于材料的定向凝固。

二·下拉法晶体生长炉设备特点：

    1·本设备采用立式底部升降结构，一体化设计，结构紧凑，装卸料方便，

    2·真空炉体采用304全不锈钢双层腔室，承压能力强

    3·采用下降法，既可以用于晶体生长，也可用于金属材料的区熔提纯

     4·真空系统可选配高低真空

     5·控制过程全程自动化，不用人为干预，

三·下拉法晶体生长炉主要技术参数

1.加热温度：     1600℃

2.常用温度：1400℃

3.功率：             15Kw±10%
3.冷态极限真空度：   ≤5Pa（可升降高真空系统）

4.坩埚尺寸：       Ф30×100mm（直径×高 ）

5.测温系统：         红外（700~1600）

7.加热方式：        高频感应加热

8.坩埚升降速度：    位移行程 150mm（步进电机控制）速度：1~60mm/min

9.线圈升降速度：    位移行程 150mm（步进电机控制）速度：1~60mm/min

10·炉内充气压力：             ≤0.03MPa

11·充气系统：                自动充放气

12·控制方式：plc+触摸屏全自动控制