真空吸铸法制备非晶材料的第四代真空电弧炉

一、真空吸铸法制备非晶材料的第四代真空电弧炉设备用途 ：

用于熔炼高熔点金属/合金，以及真空吸铸法制备大块非晶材料。适用于高校、科研院所进行真空冶金新材料的科研与小批量制备。

二、真空吸铸法制备非晶材料的第四代真空电弧炉设备主要技术参数：

1、型号：KDH-1000

2、电弧熔炼室：立式圆筒型真空室

3、真空系统配置：TRP-48直联泵、旁路阀及管道组成。

4、冷态极限真空度≤5Pa

5、熔炼电流：额定电流1000A

6、腔室尺寸：¢400*410

7、电源功率：≤60KW

8、熔炼坩埚设计有五个₵40*5圆片型工位，三个₵20*10半球形工位。

其中5个工位可带带磁搅拌功能。

9、工作气体：Ar气；

10、翻料方式：手动悬臂翻料，有机械手翻转组件

11、电弧熔炼阴极装置：引弧方式为高频引弧

12、电极杆和机械手均采用球密封机构，简便有效；电极杆升降摇摆全部采用电动方式，设计手持式操作按钮盒，无负重操作方便省力。

13、炉体侧部开门，装卸料方便省去上部打开炉盖装卸料的不便，门上有操作观察窗方便看清内部熔化情况。

14、控制方式：触摸屏+plc

三、配置清单：

1、电弧熔炼真空室                      1台

2、水冷电弧枪及电动升降                1支

3、电弧熔炼电源                        1套

4、五工位水冷铜模                      1套

5、翻转机械手                          1套

6、高真空系统（直联泵+分子泵-高真空阀门）         1套

7、惰气充放系统                        1套

8、钨电极针                           2件

9、电气控制系统                        1套

10、产品合格证、使用说明书             1份

11、产品技术资料（合格证使用说明书等） 1份

12、备品备件及专用工具                  1套