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供应数量：383
发布日期：2024/5/31
有效日期：2024/11/30
原 产 地：中德产业园35-3
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下拉法晶体生长炉
一·下拉法晶体生长炉设备用途：
下拉法晶体生长炉兼顾感应区熔及晶体生长炉两种功能，一种用于材料的熔化提纯，一种用于材料的定向凝固。
二·下拉法晶体生长炉设备特点：
1·本设备采用立式底部升降结构，一体化设计，结构紧凑，装卸料方便，
2·真空炉体采用304全不锈钢双层腔室，承压能力强
3·采用下降法，既可以用于晶体生长，也可用于金属材料的区熔提纯
4·真空系统可选配高低真空
5·控制过程全程自动化，不用人为干预，
三·下拉法晶体生长炉主要技术参数
1.加热温度： 1600℃
2.常用温度：1400℃
3.功率： 15Kw±10%
3.冷态极限真空度： ≤5Pa（可升降高真空系统）
4.坩埚尺寸： Ф30×100mm（直径×高 ）
5.测温系统： 红外（700~1600）
7.加热方式： 高频感应加热
8.坩埚升降速度： 位移行程 150mm（步进电机控制）速度：1~60mm/min
9.线圈升降速度： 位移行程 150mm（步进电机控制）速度：1~60mm/min
10·炉内充气压力： ≤0.03MPa
11·充气系统： 自动充放气
12·控制方式：plc+触摸屏全自动控制
发邮件给我们：15803995802@139.com