真空碳管炉适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理，是科研单位、高等院校、工矿企业理想的实验和生产设备。
一、真空碳管炉的技术参数
1.设备名称：真空感应熔炼炉
2.冷态极限真空度：5×10﹣3Pa
3.额定温度：1700℃
4.额定功率：15KW
5.;坩埚容量：100g～500g(熔液)
6.压升率：≤2Pa/h
7.中频电源：IGBT
二、真空碳管炉的结构说明
本产品由炉盖、炉体、回转机构、浇注装置、真空系统及高频电源控制系统等组成。
1、炉体：为全不锈钢结构。炉壳采用双层水冷结构，保证炉壳温度不超过50℃。炉盖打开方式为手动，并加有锁紧装置，炉盖上设有观察孔及屏蔽等。
2、回转机构：与炉体用法兰连接，感应线圈由铜管绕成螺旋形从炉体引出，采用威尔逊密封，密封可靠。
3、浇注装置：在坩埚旁边从炉体内生一平台，上面放置錠模，料熔炼好以后转动手柄，将坩埚内的料倾倒在錠模内。
4、真空系统：采用二级泵，油扩散泵(或分子泵)与直联泵。真空机组上设有放气阀及充气阀。
5、电源：电源采用IGBT进口功率器件，更加集成化小型化，有效输出功率达到90%以上，省电节能，比传统可控硅中频节能60%！，电气系统设有过流、过压返馈及保护电路。
